Polietilén film fotoreziszt filmkészítéshez, vastagság 20-40 mikron, fajlagos tömeg kisebb, mint 0,94
VTSZ angol megnevezése - EN
Non-cellular polyethylene film of a thickness of >= 20 micrometres but <= 40 micrometres, for the production of photoresist film used in the manufacture of semiconductors or printed circuits
